拓荆科技上市新消息：拓荆科技IPO注册获同意
admin
2022-03-02 10:13:54
0次
3月1日，拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”或公司）科创板IPO注册获同意，公司将刊登招股资料，启动发行工作。公司首次公开发行A股不超过3，161.9800万股，将登陆上交所科创板上市。
拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。
拓荆科技本次利用募集资金投资额100，029.65万元，主要用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD 设备研发与产业化项目、补充流动资金。
根据市场行情综合分析后微信号：根据市场行情综合分析后